在制药行业,制药均质机不仅是工艺设备,更是质量体系的关键环节。其设计与使用必须符合GMP(药品生产质量管理规范)及FDA 21 CFR Part 11等法规要求,确保产品安全性与数据完整性。
设计层面,设备需满足“没有死角、易清洁、防交叉污染”原则。所有与产品接触的部件(如均质阀、交互容腔、管道)应采用316L不锈钢,内表面电解抛光至Ra≤0.4μm,并通过ASME BPE认证。密封结构应避免使用可能脱落颗粒的O型圈,优先选用金属密封或FDA批准的弹性体。此外,设备应具备CIP/SIP(在线清洗/灭菌)接口,支持自动化清洁验证。
控制系统需符合数据可靠性要求。操作参数(压力、温度、循环次数)必须自动记录、不可篡改,并具备审计追踪(Audit Trail)功能。用户权限分级管理,关键操作需电子签名。软件应通过CSV(计算机化系统验证)确认,确保符合21 CFR Part 11。
验证方面,需完成IQ(安装确认)、OQ(运行确认)和PQ(性能确认)。PQ阶段尤其重要,需证明在设定参数下能稳定产出符合粒径、无菌、内毒素等质量标准的产品。同时,应建立预防性维护计划,并对交互容腔等易损件设定更换周期与使用次数上限。

值得注意的是,FDA近年强调“质量源于设计”(QbD),要求企业理解工艺参数对产品质量的影响。因此,均质工艺开发阶段就应开展设计空间研究,明确关键工艺参数(CPP)及其控制范围,为后续验证提供科学依据。